ПОРІВНЯННЯ ФІЗИКО-ХІМІЧНИХ ВЛАСТИВОСТЕЙ А-СИЛІКОНОВИХ ВІДБИТКОВИХ МАТЕРІАЛІВ

Анотація

Мета дослідження. Провести порівняльну оцінку фізико-хімічних властивостей вдосконаленого А-силіконового відбиткового матеріалу у порівнянні з його зарубіжними аналогами. Матеріали та методи дослідження. Спільно з акредитованою лабораторією стоматологічних матеріалів АТ «Стома» в Харкові, Україна, була удосконалена рецептура вітчизняного А-силіконового відбиткового матеріалу високої та низької в’язкості. Проведено порівняльну оцінку з найближчими акредитованими аналогами в Україні.Для дослідження виготовлено 350 зразків (по 15 зразків кожного матеріалу) для визначення фізико-хімічних властивостей: мікропористість, гідрофільність, гідрофобність, тиксотропність, лінійна усадка, відповідно до методик ISO 4823. У дослідженні використовувалися такі матеріали: удосконалений вітчизняний А-силіконовий матеріал «АСВМД» і «АСВМВ» виробництва «Стома», а також А-силіконові матеріали «АСВМН» (Німеччина) та «АСВМІ» (Італія).Наукова новизна. А-силіконові відбиткові матеріали є важливими у сучасній стоматології завдяки своїм фізико-хімічним властивостям, що забезпечують точність відбитків зубів і порожнин рота, необхідних для виготовлення протезів та коронок. Однак існують проблеми, пов’язані з лінійною усадкою, яка може призвести до деформацій і вплинути на відповідність відбитка з остаточним виробом. Гідрофільність цих матеріалів також важлива: гідрофобні можуть погано адгезувати до вологих поверхонь, що призводить до утворення бульбашок повітря. Водночас, гідрофільні матеріали можуть бути менш стійкими до механічних навантажень. Температура і вологість впливають на в’язкість, швидкість затвердіння і можуть викликати гідроліз. Розуміння цих властивостей дозволяє стоматологам вибирати відповідні матеріали для клінічних випадків. Однак проблеми, такі як лінійна усадка та вплив зовнішніх факторів, потребують подальших досліджень і вдосконалення технологій. Забезпечення високої точності відбитків є критично важливим для успішного лікування пацієнтів, і подальше вивчення може призвести до розробкинових, більш ефективних матеріалів. Висновки. Усі досліджені А-силіконові відбиткові матеріали високої в’язкості (тип І) відповідають вимогам ISO. Матеріал «АСВМД» показав найкращі результати: найменша мікропористість (0,346%), найнижча лінійна усадка (1,23%) та гідрофобність (32,3%). Висока тиксотропність «АСВМД» (24,68%) забезпечує стабільність форми. Серед матеріалів типу ІІІ «АСВМД» продемонстрував найкращі показники: найнижча мікропористість (0,121%), лінійна усадка (1,19%) та гідрофобність (32,3%). Високий рівень тиксотропності (24,68%) робить цей матеріал найбільш стабільним, що підкреслює його перевагу для точних і стабільних відбитків.